
#Imec vient d’installer dans sa cleanroom 300 mm à Leuven l’une des dix machines de lithographie High NA EUV les plus avancées au monde : l’ASML EXE:5200 Cet investissement est un levier concret de souveraineté européenne en matière de semi‑conducteurs, en offrant à l’écosystème R&D un accès local aux capacités de patterning indispensables aux futures générations de puces sub‑2 nm imec-int.com/en/press/imec-…
Français





