情绪与周期

最近的行情很割裂 有些公司年利润才几个亿，市值却冲到千亿。大股东减持了，大基金退出了，股价照样创新高。 仿佛不站在AI产业链里，就会被黑暗吞噬。 现在的市场不看估值，只看谁在拿订单、扩产能、进供应链。光模块、PCB、铜缆、CPO、OCS、电源、液冷甚至最边缘的元器件，只要沾边就飞。 泡泡总会破，最后还得看美股脸色和资金去向。

国产芯片这波趋势，三四天走完别人一个月的行情🤦‍♂️

上二周在炒光刻机，纷纷扬扬感觉弯道超车即将成功，其实就是你相信就好 非专业人士，但观察光刻机很多年了，随便聊聊 1.光刻机分两种：DUV（深紫外，193nm）和 EUV（极紫外，13.5nm）。 DUV 又分 ArF 干式（用于 90nm–65nm）和 ArF 浸没式——后者通过多重曝光，理论上可做到 7nm，是目前非 EUV 路线的最先进水平。 EUV 只需一次曝光就能实现 7nm 及以下，是先进制程的核心 2.上海微电子展示的是教学机，打个不太好的比喻，就像母乳喂养，只给你看个罩杯，奶能不能滴出来、能不能喂饱婴儿，谁也不知道。 多重曝光能让 DUV 做到 7nm，理论上可行，但实际无法产业化，成本太高、良率太差、效率太低，这是不现实的，雷布斯不是干过吗？ 国产 EUV 估计得十年以上，以为拆一台机器就好了？又不是乐高，难点不只是光源，还有镜头、工件台、控制系统等等 3.为什么每次炒光刻机都有凯美特气？因为2023 年真拿到了 ASML 子公司 Cymer 的认证，能供应光刻机用的关键特气（比如氟化氩），还有蓝英装备，子公司是 ASML 全球唯一指定的光刻机清洗服务商，算是服务配套了一点 4.既然要靠多重曝光“弯道超车”，那曝光次数多了，材料消耗自然上升——特气、光刻胶、抛光材料这些，用量都会增加 5.真正在国产替代上进展比较快的环节，是一些材料，如靶材、特气、CMP 抛光材料，还有一些设备和封测 光刻机不是吹牛吹出来的，是一步一个脚印（我曾经翻过ASML的历史，它是30年前从philip分离出来，从一个破工棚开始再获得多轮投资，特别是美方支持)

市场每一轮杀跌，回头看都是起点的前夕，而且这是建立在调整五天的基础(非科创半导体板块）上来了这么一出大的杀跌，近两年这种杀跌，次日都会给到修复，明天看看率先修复哪里，反正要想修复指数，不是海外链就是国产链。